29 июля 2026, 00:17
СМИ: «ЗНТЦ создал установку электронно‑лучевой литографии по технологии 150 нм для фотошаблонов и спецмикросхем»
В России создана суверенная установка электронно‑лучевой литографии с проектными нормами 150 нм для выпуска чипов. Оборудование разработало АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ). Сейчас
26 марта 2026, 20:57
Россия начнёт разработку литографа для производства чипов по технологии 90 нм в 2026 году
В 2026 году Россия начнёт работу над созданием литографа для производства чипов по топологии 90 нм. Об этом 20 марта 2026 года на отраслевой научно-технической конференции радиоэлектронной промышленно